Sheet Resistance Reduction of MoS2 Film using Sputtering and Chlorine Plasma Treatment followed by Sulfur Vapor Annealing

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Sheet Resistance Reduction of MoS2 Film using Sputtering and Chlorine Plasma Treatment followed by Sulfur Vapor Annealing

著者

和文:	濱田拓也, Shigetaka Tomiya, Tetsuya Tatsumi, 濱田昌也, 堀口大河, 角嶋邦之, 筒井一生, 若林整.
英文:	Takuya Hamada, Shigetaka Tomiya, Tetsuya Tatsumi, Masaya Hamada, Taiga Horiguchi, Kuniyuki Kakushima, Kazuo Tsutsui, Hitoshi Wakabayashi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Journal of the Electron Devices Society (J-EDS)

巻, 号, ページ

Vol. 9 Page 278-285

出版年月

2021年1月

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

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DOI