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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Sheet Resistance Reduction of MoS2 Film using Sputtering and Chlorine Plasma Treatment followed by Sulfur Vapor Annealing 
著者
和文: 濱田 拓也, Shigetaka Tomiya, Tetsuya Tatsumi, 濱田 昌也, 堀口 大河, 角嶋 邦之, 筒井 一生, 若林 整.  
英文: Takuya Hamada, Shigetaka Tomiya, Tetsuya Tatsumi, Masaya Hamada, Taiga Horiguchi, Kuniyuki Kakushima, Kazuo Tsutsui, Hitoshi Wakabayashi.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Journal of the Electron Devices Society (J-EDS) 
巻, 号, ページ Vol. 9        Page 278-285
出版年月 2021年1月 
出版者
和文: 
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会議名称
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開催地
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DOI https://doi.org/10.1109/JEDS.2021.3050801

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