English
Home
各種検索
研究業績検索
論文・著書検索
( 詳細検索 )
特許検索
( 詳細検索 )
研究ハイライト検索
( 詳細検索 )
研究者検索
組織・担当から絞り込む
サポート
よくあるご質問(FAQ)
T2R2登録申請
学位論文登録について
組織単位データ出力について
(学内限定)
サポート・問合せ
T2R2について
T2R2とは?
運用指針
リーフレット
本文ファイルの公開について
関連リンク
東京科学大学
東京科学大学STARサーチ
国立情報学研究所(学術機関リポジトリ構築連携支援事業)
Home
>
ヘルプ
論文・著書情報
タイトル
和文:
英文:
High field-effect mobility with suppressed negative threshold voltage shift in 4H-SiC MOSFET with cerium oxide interfacial layer
著者
和文:
宋 禛漢
,
太田 惇丈
,
星井 拓也
,
若林 整
,
筒井 一生
,
角嶋 邦之
.
英文:
Jinhan Song
,
Atsuhiro Ohta
,
Takuya Hoshii
,
Hitoshi Wakabayashi
,
Kazuo Tsutsui
,
Kuniyuki Kakushima
.
言語
English
掲載誌/書名
和文:
英文:
Japanese Journal of Applied Physics (JJAP) (Rapid Communication)
巻, 号, ページ
Vol. 60 Page 30901
出版年月
2021年2月
出版者
和文:
英文:
会議名称
和文:
英文:
開催地
和文:
英文:
DOI
https://doi.org/10.35848/1347-4065/abdf7c
©2007
Institute of Science Tokyo All rights reserved.