Fast EUV lithography simulation using convolutional neural network

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Fast EUV lithography simulation using convolutional neural network

著者

和文:	田邊容由, 佐藤真平, 高橋篤司.
英文:	Hiroyoshi Tanabe, Shimpei Sato, Atsushi Takahashi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Journal of Micro/Nanopatterning, Materials and Metrology (JM3)

巻, 号, ページ

Vol. 20 No. 4 pp. 1-14

出版年月

2021年9月24日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:

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DOI