PLD法によるLa<sub>n+1</sub>Ni<sub>n</sub>O<sub>3n+1</sub>エピタキシャル薄膜合成と異原子価ドーピングの影響 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	PLD法によるLa_n+1Ni_nO_3n+1エピタキシャル薄膜合成と異原子価ドーピングの影響
英文:

著者

和文:	後藤祐己, 久富翔平, 大賀友瑛, 金子智, 吉本護, 松田晃史.
英文:	Yuki Goto, Shohei Hisatomi, Tomoaki Oga, Satoru Kaneko, MAMORU YOSHIMOTO, Akifumi Matsuda.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2022年3月25日

出版者

和文:	応用物理学会
英文:

会議名称

和文:	第69回応用物理学会春季学術講演会
英文:

開催地

和文:	神奈川県相模原市
英文:

公式リンク

https://confit.atlas.jp/guide/event/jsap2022s/top

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