Recovery of ferroelectric property after endurance test by positive reset voltage application for CeOx-capped ferroelectric HfO2 films

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Recovery of ferroelectric property after endurance test by positive reset voltage application for CeOx-capped ferroelectric HfO2 films

著者

和文:	水谷一翔, 星井拓也, 若林整, 筒井一生, 角嶋邦之.
英文:	Kazuto Mizutani, T. Hoshii, H. Wakabayashi, K. Tsutsui, K. Kakushima.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2021年11月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	International Workshop on Dielectric Thin Films for Futre Electron Devices -Science and Technology-

開催地

和文:
英文: