Home >

news ヘルプ

論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Data augmentation in EUV lithography simulation based on convolutional neural network 
著者
和文: 田邊 容由, 高橋 篤司.  
英文: Hiroyoshi Tanabe, Atsushi Takahashi.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2022年5月26日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:Proc. SPIE 12052, Advanced Lithography + Patterning 2022, 120520T 
開催地
和文: 
英文:California 
ファイル
DOI https://doi.org/10.1117/12.2615267

©2007 Institute of Science Tokyo All rights reserved.