Positive Seebeck coefficient of niobium-doped MoS2 film deposited by sputtering and activated by sulfur vapor annealing

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Positive Seebeck coefficient of niobium-doped MoS2 film deposited by sputtering and activated by sulfur vapor annealing

著者

和文:	堀口大河, 濱田拓也, 濱田昌也, 宗田伊理也, 角嶋邦之, 筒井一生, 辰巳哲也, 冨谷茂隆, 若林整.
英文:	Taiga Horiguchi, Takuya Hamada, Masaya Hamada, Iriya Muneta, Kuniyuki Kakushima, Kazuo Tsutsui, Tetsuya Tatsumi, Shigetaka Tomiya, Hitoshi Wakabayashi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 61 075506

出版年月

2022年7月1日

出版者

和文:
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会議名称

和文:
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開催地

和文:
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DOI