“Spin-Spray Method” A Novel Solution Process for Preparing Semiconductor Oxide Films with Low Environmental Load

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	“Spin-Spray Method” A Novel Solution Process for Preparing Semiconductor Oxide Films with Low Environmental Load

著者

和文:	新田亮介, 久保田雄太, LIN Hwai-en, 吉村昌弘, 松下伸広.
英文:	Ryosuke Nitta, Yuta Kubota, Lin Hwai En, Masahiro Yoshimura, Nobuhiro Matsushita.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2021年11月16日

出版者

和文:
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会議名称

和文:
英文:	ACTSEA 2021

開催地

和文:
英文: