(110)配向マルチフェロイックBiFe<sub>0.9</sub>Co<sub>0.1</sub>O<sub>3</sub>薄膜の面内電場印加による強誘電性・強磁性ドメイン構造変化 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	(110)配向マルチフェロイックBiFe_0.9Co_0.1O₃薄膜の面内電場印加による強誘電性・強磁性ドメイン構造変化
英文:

著者

和文:	伊藤拓真, 重松圭, 東正樹.
英文:	Takuma Itoh, Kei Shigematsu, Masaki Azuma.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2022年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	第83回応用物理学会秋季学術講演会
英文:

開催地

和文:
英文:

©2007 Tokyo Institute of Technology All rights reserved.