Evaluation of CNN for fast EUV lithography simulation using iN3 logic mask patterns

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Evaluation of CNN for fast EUV lithography simulation using iN3 logic mask patterns

著者

和文:	田邊容由, 神宮司明良, 高橋篤司.
英文:	Hiroyoshi Tanabe, Akira Jinguji, Atsushi Takahashi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Proc. SPIE 12495, Advanced Lithography + Patterning 2023, 124951J

巻, 号, ページ

出版年月

2023年4月28日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:	California

DOI