Self-Aligned WOx S/D Contacts to Gate Stacks with TiOx Nucleation Layer by Multiple-Deposition Method in WSe2 pFETs

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Self-Aligned WOx S/D Contacts to Gate Stacks with TiOx Nucleation Layer by Multiple-Deposition Method in WSe2 pFETs

著者

和文:	梶川亮介, 川那子高暢, 宗田伊理也, 星井拓也, 角嶋邦之, 筒井一生, 若林整.
英文:	Ryosuke Kajikawa, Takamasa Kawanago, Iriya Muneta, Takuya Hoshii, Kuniyuki Kakushima, Kazuo Tsutsui, Hitoshi Wakabayashi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2023年9月6日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	International Conference on Solid State Devices and Materials

開催地

和文:	名古屋
英文:	Nagoya