FCVA 法による ta-C 膜の3Dコーティング（炭素イオンの入射挙動が膜に及ぼす影響評価） | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	FCVA 法による ta-C 膜の3Dコーティング（炭素イオンの入射挙動が膜に及ぼす影響評価）
英文:

著者

和文:	為野悠人, 平田祐樹, 石川功, 赤坂大樹, 大竹尚登, 松岡広成.
英文:	為野悠人, Yuki Hirata, 石川功, Hiroki Akasaka, NAOTO OHTAKE, 松岡広成.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2023年5月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	トライボロジー会議2023 春東京
英文:

開催地

和文:
英文:

©2007 Tokyo Institute of Technology All rights reserved.