Accelerating EUV lithography simulation with weakly guiding approximation and STCC formula

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Accelerating EUV lithography simulation with weakly guiding approximation and STCC formula

著者

和文:	田邊容由, 神宮司明良, 高橋篤司.
英文:	Hiroyoshi Tanabe, Akira Jinguji, Atsushi Takahashi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Proc. SPIE 12750, International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2023, 127500D

巻, 号, ページ

出版年月

2023年11月21日

出版者

和文:
英文:	Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers (SPIE)

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:	Monterey California

ファイル

DOI