高濃度n型ドープSi1−xSnx薄膜の低温熱電物性評価 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	高濃度n型ドープSi1−xSnx薄膜の低温熱電物性評価
英文:

著者

和文:	大岩樹, 柴山茂久, 坂下満男, 中塚理, 片瀬貴義, 黒澤昌志.
英文:	大岩樹, 柴山茂久, 坂下満男, 中塚理, Takayoshi Katase, 黒澤昌志.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2023年8月

出版者

和文:
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会議名称

和文:	第7回フォノンエンジニアリング研究会
英文:

開催地

和文:
英文:

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