Accelerating extreme ultraviolet lithography simulation with weakly guiding approximation and source position dependent transmission cross coefficient formula

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Accelerating extreme ultraviolet lithography simulation with weakly guiding approximation and source position dependent transmission cross coefficient formula

著者

和文:	田邊容由, 神宮司明良, 高橋篤司.
英文:	Hiroyoshi Tanabe, Akira Jinguji, Atsushi Takahashi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Journal of Micro/Nanopattern. Mater. Metrol (JM3)

巻, 号, ページ

Vol. 23 Issue 1

出版年月

2024年1月2日

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

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DOI