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論文・著書情報


タイトル
和文:トポロジカル絶縁体BiSbを適用した磁性細線メモリー 
英文: 
著者
和文: 宮本 泰敬, 加藤 大典, 小倉 渓, 木下 延博, Pham Nam Hai.  
英文: Yasuyoshi Miyamoto, 加藤 大典, 小倉 渓, 木下 延博, Pham Nam Hai.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2024年1月19日 
出版者
和文: 
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会議名称
和文:CREST領域会議 「トポロジカル材料科学の構築による革新的材料・デバイスの創出」 
英文: 
開催地
和文: 
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