電子線描画HSQをマスクに用いたBiFe<sub>0.9</sub>Co<sub>0.1</sub>O<sub>3</sub>ナノドットの作製 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	電子線描画HSQをマスクに用いたBiFe_0.9Co_0.1O₃ナノドットの作製
英文:

著者

和文:	中山創, 吉川浩太, Lee Koomok, 安井学, 金子智, 黒内正仁, 重松圭, 東正樹.
英文:	Hajime Nakayama, 吉川浩太, Koomok Lee, 安井学, 金子智, 黒内正仁, Kei Shigematsu, Masaki Azuma.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2024年

出版者

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会議名称

和文:	第71回応用物理学会春季学術講演会
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開催地

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