等方性モノマーのパターン光重合による力学異方性フィルムの設計

論文・著書情報

タイトル

和文:	等方性モノマーのパターン光重合による力学異方性フィルムの設計
英文:	Design of anisotropically mechanical polymer films by patterned photopolymerization of isotropic monomers

著者

和文:	三崎響介, 岸本勇勝, 久野恭平, 宍戸厚.
英文:	Kyosuke Misaki, Yusho Kishimoto, Kyohei Hisano, Atsushi Shishido.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
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巻, 号, ページ

出版年月

2024年3月20日

出版者

和文:
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会議名称

和文:	日本化学会第104春季年会(2024)
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開催地

和文:	千葉
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