ミストCVD法を用いた(In,Ga)2S3薄膜の作製 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	ミストCVD法を用いた(In,Ga)2S3薄膜の作製
英文:

著者

和文:	荒木耀平, 船木顕広, 西村昂人, 山田明.
英文:	Yohei Araki, Akihiro Funaki, Takahito Nishimura, AKIRA YAMADA.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2024年9月18日

出版者

和文:
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会議名称

和文:	第85回応用物理学会秋季学術講演会
英文:

開催地

和文:	新潟
英文:

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