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タイトル
和文:
Hydrogen-included Plasma-assisted Reactive Sputtering for Conductivity Control of Ultra-Wide Bandgap Amorphous Gallium Oxide
英文:
Hydrogen-included Plasma-assisted Reactive Sputtering for Conductivity Control of Ultra-Wide Bandgap Amorphous Gallium Oxide
著者
和文:
Kosuke Takenaka, Hibiki Komatsu,
Taichi Sagano
,
Keisuke Ide
, Susumu Toko,
Takayoshi Katase
,
Toshio Kamiya
, Yuichi Setsuhara.
英文:
Kosuke Takenaka, Hibiki Komatsu,
Taichi Sagano
,
Keisuke Ide
, Susumu Toko,
Takayoshi Katase
,
Toshio Kamiya
, Yuichi Setsuhara.
言語
English
掲載誌/書名
和文:
Jpn. J. Appl. Phys.
英文:
Jpn. J. Appl. Phys.
巻, 号, ページ
Vol. 63 pp. 04SP65
出版年月
2024年8月17日
出版者
和文:
英文:
会議名称
和文:
英文:
開催地
和文:
英文:
©2007
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