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タイトル
和文:Hydrogen-included Plasma-assisted Reactive Sputtering for Conductivity Control of Ultra-Wide Bandgap Amorphous Gallium Oxide 
英文:Hydrogen-included Plasma-assisted Reactive Sputtering for Conductivity Control of Ultra-Wide Bandgap Amorphous Gallium Oxide 
著者
和文: Kosuke Takenaka, Hibiki Komatsu, Taichi Sagano, Keisuke Ide, Susumu Toko, Takayoshi Katase, Toshio Kamiya, Yuichi Setsuhara.  
英文: Kosuke Takenaka, Hibiki Komatsu, Taichi Sagano, Keisuke Ide, Susumu Toko, Takayoshi Katase, Toshio Kamiya, Yuichi Setsuhara.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文:Jpn. J. Appl. Phys. 
英文:Jpn. J. Appl. Phys. 
巻, 号, ページ Vol. 63        pp. 04SP65
出版年月 2024年8月17日 
出版者
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会議名称
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開催地
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