Impact of Oxygen Pressure and Substrate Temperature on Epitaxial Film Growth of Rutile-type GeO2

論文・著書情報

タイトル

和文:	Impact of Oxygen Pressure and Substrate Temperature on Epitaxial Film Growth of Rutile-type GeO2
英文:	Impact of Oxygen Pressure and Substrate Temperature on Epitaxial Film Growth of Rutile-type GeO2

著者

和文:	Tomoya Suzuki, Kaname Sakaban, Takayoshi Katase, Hidenori Hiramatsu, Hideo Hosono, Toshio Kamiya.
英文:	Tomoya Suzuki, Kaname Sakaban, Takayoshi Katase, Hidenori Hiramatsu, Hideo Hosono, Toshio Kamiya.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2024年10月8日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	The Fourteenth International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics (STAC14)
英文:	The Fourteenth International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics (STAC14)

開催地

和文:	横浜
英文:	Yokohama