OPC において要求光強度が近傍で不均一な状況におけるマスクパターン修正方法

論文・著書情報

タイトル

和文:	OPC において要求光強度が近傍で不均一な状況におけるマスクパターン修正方法
英文:	Mask Pattern Modification Method for OPC to Reduce the Non-uniform Light Intensity

著者

和文:	野崎翔太郎, 高橋篤司.
英文:	Shotaro Nozaki, Atsushi Takahashi.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	DAシンポジウム2024 論文集
英文:	Proc. DA Symposium 2024, IPSJ Symposium Series

巻, 号, ページ

pp. 57-64

出版年月

2024年8月

出版者

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会議名称

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開催地

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