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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Comparison of Sulfonation Efficiency of Plasma Treatments between Dielectric Barrier Discharge and DC Discharge 
著者
和文: YAO Kaixun, 高橋 克幸, 立花 孝介, 兒玉 学, LI Oi Lun, 竹内 希.  
英文: YAO Kaixun, 高橋克幸, 立花孝介, 兒玉学, LI Oi Lun, 竹内希.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2025年1月23日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:誘電・絶縁材料/放電・プラズマ・パルスパワー/高電圧 合同研究会 
英文: 
開催地
和文:沖縄県 
英文: 

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