Growth of Co thin Films with Low Roughness by ALD for 3D Magnetic Memory

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Growth of Co thin Films with Low Roughness by ALD for 3D Magnetic Memory

著者

和文:	HU YIFAN, 佐藤虹太, ZHANG RUIXIAN, 石田乾, PHAM NAM HAI.
英文:	Y. Hu, K. Sato, R. Zhang, K. Ishida, P. N. Hai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2025年2月28日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	International Conference of Asian Union of Magnetics Societies (IcAUMS 2025)

開催地

和文:
英文:	Okinawa