Sub-micrometer-sized Patterning of Photoresist by Electron Beam Projection Lithography Using Tabletop Scanning Electron Microscopy System and Stencil Masks

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Sub-micrometer-sized Patterning of Photoresist by Electron Beam Projection Lithography Using Tabletop Scanning Electron Microscopy System and Stencil Masks

著者

和文:	佐藤美那, 遠西美重, 藤本美穂, 松谷晃宏.
英文:	Mina Sato, Mie Tohnishi, Miho Fujimoto, Akihiro Matsutani.

言語

English

掲載誌/書名

和文:	Sensors and Materials
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 37 No. 3 pp. 977-985

出版年月

2025年3月

出版者

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会議名称

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開催地

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