Rigorous electromagnetic simulator for extreme ultraviolet lithography and convolutional neural network reproducing electromagnetic simulations

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Rigorous electromagnetic simulator for extreme ultraviolet lithography and convolutional neural network reproducing electromagnetic simulations

著者

和文:	田邊容由, 下田将之, 高橋篤司.
英文:	Hiroyoshi Tanabe, Masayuki Shimoda, Atsushi Takahashi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Journal of Micro/Nanopatterning, Materials and Metrology (JM3)

巻, 号, ページ

Vol. 24 issue 2

出版年月

2025年5月11日

出版者

和文:
英文:	SPIE

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:

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DOI