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論文・著書情報


タイトル
和文:EUVリソグラフィシミュレーション高速化のための CNN学習用カーブリニアマスクパターン生成 
英文:Curvilinear Mask Pattern Generation for CNN Training to Accelerate EUV Lithography Simulation 
著者
和文: 杉山萌, 田邊容由, 下田将之, 高橋篤司.  
英文: Moe Sugiyama, Hiroyoshi Tanabe, Masayuki Shimoda, Atsushi Takahashi.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:DAシンポジウム2025 論文集 
英文:Proc. DA Symposium 2025, IPSJ Symposium Series 
巻, 号, ページ         pp. 106-112
出版年月 2025年8月 
出版者
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会議名称
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開催地
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公式リンク https://ipsj.ixsq.nii.ac.jp/records/2003411
 

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