Electrodeposition of Ruthenium on Copper and Titanium Substrates:  A Comparative Study of Current Efficiency

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Electrodeposition of Ruthenium on Copper and Titanium Substrates: A Comparative Study of Current Efficiency

著者

和文:	HU ZHITAO, 栗岡智行, Yung-Jung Hsu, Chang Tso-Fu Mark, 町田克之, 伊藤浩之, 三宅美博, 曽根正人.
英文:	Zhitao Hu, Tomoyuki Kurioka, Yung-Jung Hsu, Tso-Fu Mark Chang, Katsuyuki Machida, Hiroyuki Ito, Yoshihiro Miyake, Masato Sone.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2025年11月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	2025 MRS-Taiwan Annual Meeting

開催地

和文:
英文:	Hsinchu