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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Effects of Bias Power on EEPFs near the Substrate in Argon ICP Measured by a Langmuir Probe 
著者
和文: 叶宇晨, 土居謙太, 清田哲司, 島谷和希, 羽生陽向, 櫻井彩貴, 山下雄也, 根津篤, 赤塚洋.  
英文: Yuchen Ye, Kenta Doi, Tetsuji Kiyota, Kazuki Shimatani, Hinata Hanyu, Ayaki Sakurai, Yuya Yamashita, Atsushi Nezu, Hiroshi Akatsuka.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Proc. DPS2025 
巻, 号, ページ        
出版年月 2025年11月13日 
出版者
和文:応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会 
英文:Division of Plasma Electronics, Japan Society of Applied Physics 
会議名称
和文: 
英文:The 46th International Symposium on Dry Process (DPS2025) 
開催地
和文:松山 
英文:Matsuyama 
公式リンク https://www.dry-process.org/2025/poster_program.html
 
アブストラクト Electron energy probability functions (EEPFs) were measured 12 mm above the substrate across the diameter of the argon ICP chamber using a single Langmuir probe under applied bias power. The EEPFs exhibited reduced low-energy components and enhanced high-energy tails under 12.5 MHz RF bias, evolving toward a one-temperature Maxwellian profile.

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