"Hiroaki Imamura,Taichi Inamura,Kuniyuki KAKUSHIMA,Yoshinori Kataoka,Akira Nishiyama,Nobuyuki Sugii,Hitoshi Wakabayashi,KAZUO TSUTSUI,Kenji Natori,HIROSHI IWAI","Characterization of Thin NiSi2 Films by Stacked Silicidation Sputtering Process with Kr Gas","The Workshop on Future Trend of Nanoelectronics:WIMNACT 39",,,,,,2014,
"今村浩章,角嶋邦之,片岡好則,西山彰,杉井信之,若林整,筒井一生,名取研二,岩井洋","積層シリサイド化スパッタプロセスにより作成したNiシリサイドショットキーダイオードの評価","第61回応用物理学会春季学術講演会",,,,,,2014,
"今村浩章,稲村太一,角嶋邦之,片岡好則,西山彰,杉井信之,若林整,筒井一生,名取研二,岩井洋","Krガスを用いた積層シリサイド化スパッタプロセスにより形成したNiSi2の薄膜評価","第74回応用物理学会秋季学術講演会",,,,,,2013,