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  林建吾  研究業績一覧 (11件)
  
  
    
    
      
	
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  論文
    
      
        
Y. Takamura,
K. Hayashi,
Y. Shuto,
R. Nakane,
S. Sugahara.
        
Fabrication of High-Quality Co2FeSi/SiOxNy/Si(100) Tunnel Contacts Using Radical-Oxynitridation-Formed SiOxNy Barrier for Si-Based Spin Transistors,
      J. Electron. Mater.,
      Springer,
      vol. 41,
      no. 5,
      pp. 954-958,
      Apr. 2012.
      
        
      
      
      
        
K. Hayashi,
Y. Takamura,
R. Nakane,
S. Sugahara.
        
Formation of Co2FeSi/SiOxNy/Si tunnel junctions for Si-based spin transistors,
      J. Appl. Phys.,
      American Institute of Physics.,
      Vol. 107,
      pp. 09B104/1-3,
      Apr. 2010.
      
        
      
      
       国際会議発表 (査読有り)
    
      
        
Y. Takamura,
K. Hayashi,
Y. Shuto,
S. Sugahara.
        
Formation and structural analysis of half-metallic Co2FeSi/SiOxNy/Si contacts with radical-oxynitridation-SiOxNy tunnel barrier,
      International Symposium on Advanced Hybrid Nano Devices (IS-AHND) : Prospects by World’s Leading Scientists,
        paper P-40,
      pp. 127-128,
      Oct. 2011.
      
        
      
      
      
        
Y. Takamura,
K. Hayashi,
Y. Shuto,
S. Sugahara.
        
Formation of half-metallic tunnel junctions of Co2FeSi/SiOxNy/Si using radical oxynitridation technique,
      Electronic Materials Conf. (EMC) 2011,
        DD-9,
      p. 96,
      June 2011.
      
        
      
      
      
        
K. Hayashi,
Y. Takamura,
R. Nakane,
S. Sugahara.
        
Preparation and characterization of full-Heusler Co2FeSi alloy thin films on amorphous insulator films,
      IEEE International Magnetics Conference (INTERMAG 09),
        paper ES-08,
      May 2009.
      
        
      
      
       国内会議発表 (査読なし・不明)
    
      
        
高村陽太,
林建吾,
影井泰次郎,
周藤悠介,
菅原聡.
        
ラジカル酸窒化膜を用いたCFS/SiOxNy/Siトンネル接合の形成と構造評価,
      第16回半導体スピン工学の基礎と応用(PASPS-16),
      p. 41,
      Nov. 2011.
      
        
      
      
      
        
髙村 陽太,
林 建吾,
周藤 悠介,
菅原 聡.
        
ラジカル酸窒化法を用いたCo2FeSi/SiOxNy/Siトンネル接合の形成,
      第72回応用物理学会学術講演会,
        31p-ZS-12,
      Sept. 2011.
      
        
      
       公式リンク   
        
林建吾,
高村陽太,
周藤悠介,
菅原聡.
        
RTA法を用いたCo2FeSiの形成における初期多層膜構造の影響,
      第58回応用物理学関係連合講演会,
        25a-KM-10,
      Mar. 2011.
      
        
      
       公式リンク   
        
林建吾,
高村陽太,
中根了昌,
菅原聡.
        
Co2FeSi/SiOxNy/Siトンネル接合の形成とその構造評価,
      第57回応用物理学関係連合講演会,
        17a-ZH-5,
      Mar. 2010.
      
        
      
       公式リンク   
        
林建吾,
高村陽太,
中根了昌,
菅原聡.
        
極薄絶縁膜上へのフルホイスラー合金Co2FeSiの形成とその評価,
      第56回応用物理学関連連合講演会,
        1a-Q-5,
      Mar. 2009.
      
        
      
       公式リンク   
        
林建吾,
高村陽太,
中根了昌,
菅原聡.
        
非晶質絶縁膜上へのフルホイスラー合金Co2FeSiの形成と評価,
      第13回半導体スピン工学の基礎と応用 (PASPS-13),
        B-3,
      p. 9,
      Jan. 2009.
      
        
      
       公式リンク   
 
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