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DongLei 研究業績一覧 (11件)
論文
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Lei Dong,
Alvin Chandra,
Kevin Wylie,
Yuta Nabae,
Teruaki Hayakawa,
Mehdi Salami-Kalajahi.
Tunable Thin Film Periodicities by Controlling the Orientation of Cylindrical Domains in Side Chain Liquid Crystalline Block Copolymers,
International Journal of Polymer Science,
Hindawi,
Vol. 2022,
pp. 8286518,
Sept. 2022.
公式リンク
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Lei Dong,
Kevin Wylie,
Yuta Nabae,
Teruaki Hayakawa.
An experimental and theoretical investigation into the self-assembly of a chemically modified high-χ coil-rod diblock copolymer,
RSC Advances,
The Royal Society of Chemistry,
Vol. 12,
No. 28,
pp. 17950-17958,
June 2022.
公式リンク
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Lei Dong,
Alvin Chandra,
Kevin Wylie,
Ryuichi Nakatani,
Yuta Nabae,
Teruaki Hayakawa.
The Role of Liquid Crystalline Side Chains for Long-range Ordering in the Block Copolymer Thin Films,
Journal of Photopolymer Science and Technology,
Vol. 33,
No. 5,
pp. 529-536,
Apr. 2020.
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Kevin Wylie,
Lei Dong,
Alvin Chandra,
Yuta Nabae,
Teruaki Hayakawa.
Modifying the Interaction Parameters of a Linear ABC Triblock Terpolymer by Functionalizing the Short, Reactive Middle Block To Induce Morphological Change,
Macromolecules,
American Chemical Society,
Vol. 53,
No. 4,
pp. 1293-1301,
Feb. 2020.
公式リンク
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Lei Dong,
Rin Odashima,
Takehiro Seshimo,
Yuta Nabae,
Teruaki Hayakawa.
Synthesis and Morphology Studies of Polysiloxane-based Triblock Copolymers,
Journal of Photopolymer Science and Technology,
Vol. 32,
No. 6,
pp. 817-822,
Nov. 2019.
特許など
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早川晃鏡,
DongLei,
太宰 尚宏 ,
森 貴敬 ,
宮城 賢 ,
川名 大助 .
相分離構造形成用樹脂組成物、相分離構造を含む構造体の製造方法、及びブロックコポリマー.
特許.
公開.
国立大学法人東京工業大学, 東京応化工業株式会社.
2023/01/05.
特願2023-000524.
2023/03/14.
特開2023-036946.
2023.
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早川晃鏡,
DongLei,
太宰 尚宏,
森 貴敬,
宮城 賢,
川名 大助 .
相分離構造形成用樹脂組成物、相分離構造を含む構造体の製造方法、及びブロックコポリマー.
特許.
登録.
国立大学法人東京工業大学, 東京応化工業株式会社.
2020/07/20.
特願2020-124078.
2022/02/01.
特開2022-020519.
特許第7213495号.
2023/01/19
2023.
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早川晃鏡,
DongLei,
小田島凜,
山崎 晃義,
川名 大助,
瀬下 武広.
ブロック共重合体及びその製造方法、ならびに相分離構造を含む構造体の製造方法.
特許.
登録.
国立大学法人東京工業大学, 東京応化工業株式会社.
2018/03/05.
特願2018-039127.
2019/09/12.
特開2019-151769.
特許第7076701号.
2022/05/20
2022.
学位論文
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High-χ Parameter Diblock Copolymers with Fluorinated Side Chains for Next Generation Lithography,
Summary,
Doctor (Engineering),
Tokyo Institute of Technology,
2020/09/25,
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High-χ Parameter Diblock Copolymers with Fluorinated Side Chains for Next Generation Lithography,
Thesis,
Doctor (Engineering),
Tokyo Institute of Technology,
2020/09/25,
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High-χ Parameter Diblock Copolymers with Fluorinated Side Chains for Next Generation Lithography,
Exam Summary,
Doctor (Engineering),
Tokyo Institute of Technology,
2020/09/25,
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