@inproceedings{CTT100672969,
  author = {Hiroaki Imamura and Taichi Inamura and Kuniyuki KAKUSHIMA and Yoshinori Kataoka and Akira Nishiyama and Nobuyuki Sugii and Hitoshi Wakabayashi and KAZUO TSUTSUI and Kenji Natori and HIROSHI IWAI},
  title = {Characterization of Thin NiSi2 Films by Stacked Silicidation Sputtering Process with Kr Gas},
  booktitle = {},
  year = 2014,
}

@inproceedings{CTT100673473,
  author = {今村浩章 and 角嶋邦之 and 片岡好則 and 西山彰 and 杉井信之 and 若林整 and 筒井一生 and 名取研二 and 岩井洋},
  title = {積層シリサイド化スパッタプロセスにより作成したNiシリサイドショットキーダイオードの評価},
  booktitle = {},
  year = 2014,
}

@inproceedings{CTT100662339,
  author = {今村浩章 and 稲村太一 and 角嶋邦之 and 片岡好則 and 西山彰 and 杉井信之 and 若林整 and 筒井一生 and 名取研二 and 岩井洋},
  title = {Krガスを用いた積層シリサイド化スパッタプロセスにより形成したNiSi2の薄膜評価},
  booktitle = {},
  year = 2013,
}