論文

• Shotaro Yamazaki, Yoshifumi Nakamine, Ran Zheng, Masahiro Kouge, Tetsuya Ishikawa, Koichi Usami, Tetsuo Kodera, Yukio Kawano, Shunri Oda. Formation of three-dimensionally integrated nanocrystalline silicon particles by dip-coating method, Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 54, pp. 105001-5, Sept. 2015.

国際会議発表 (査読有り)

• Tetsuya Ishikawa, Hiroki Nikaido, kouichi usami, Ken Uchida, Shunri Oda. Formation of two-dimensional array of Si nanocrystals using nano Si ink, G-COE PICE International Symposium on Silicon Nano Devices in 2030, Oct. 2009.
• T. Ishikawa, H. Nikaido, Kouichi Usami, K. Uchida, S. Oda. Fabrication of nano Si ink and two-dimensionally assembled Si nanocrystals, 35th International Conference on Micro & Nano Engineering, Sept. 2009.
• 二階堂広基, 石川哲也, 内田 建, 小田俊理. Langmuir-Blodgett法によるナノ結晶シリコン量子ドットの集積配列, 第70回応用物理学会学術講演会, Sept. 2009.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 高下雅央, 石川哲也, 宇佐美浩一, 小寺哲夫, 内田 建, 小田俊理. 凹凸基板を用いたディップコーティング法によるナノ結晶シリコンの集積化技術, 第71回応用物理学会学術講演会, 17a-ZB-4, Sept. 2010.

[ BibTeX 形式で保存 ]    [ 論文・著書をCSV形式で保存 ]    [ 特許をCSV形式で保存 ]