@article{CTT100911315,
  author = {Mina Sato and Mie Tohnishi and Akihiro Matsutani},
  title = {Microfabrication of Si by KOH Etchant Using Etching Masks Amorphized by Ion Beam Extracted From Electron Cyclotron Plasma},
  journal = {Sensors and Materials},
  year = 2024,
}

@article{CTT100887414,
  author = {Mie Tohnishi and Mina Sato and Akihiro Matsutani and Takashi Ubukata and Sachiko Matsushita},
  title = {Surface Treatment of Polyimide using Solid-source H2O Plasma for Fabrication of Ge Electrode},
  journal = {Sensors and Materials},
  year = 2023,
}

@article{CTT100885535,
  author = {Ryo Tsukui and Masaru Kino and Kodai Yamamoto and Mina Sato and Mie Tohnishi and Akihiro Matsutani and Mikio Kurita},
  title = {Laboratory demonstration of the birefrigent point-diffraction interferometer wavefront sensor},
  journal = {Optics Continuum},
  year = 2023,
}

@article{CTT100865308,
  author = {Mina Sato and Mie Tohnishi and Akihiro Matsutani},
  title = {Microfabrication of Si by KOH Etchant Using Etching Mask Amorphized by Ar Ion Beam},
  journal = {Sensors and Materials},
  year = 2022,
}

@article{CTT100843499,
  author = {Mie Tohnishi and Akihiro Matsutani},
  title = {Surface Treatment of Polydimethylsiloxane and Glass Using Solid-source H2O Plasma for Fabrication of Microfluidic Devices},
  journal = {Sensors and Materials},
  year = 2021,
}

@inproceedings{CTT100927244,
  author = {Mina Sato and Mie Tohnishi and Miho Fujimoto and Akihiro Matsutani},
  title = {Submicrometer-sized Patterning of Photoresist  by Electron Beam Projection Lithography  Using Tabletop Scanning Electron Microscope System and Si Stencil Mask},
  booktitle = {},
  year = 2024,
}

@inproceedings{CTT100926582,
  author = {遠西 美重},
  title = {固体ソースH₂Oプラズマによるフォトレジストのエッチング分布の均一化},
  booktitle = {},
  year = 2024,
}

@inproceedings{CTT100911026,
  author = {松谷晃宏 and 遠西美重 and 吉田 桜子},
  title = {OsコーティングによるSU-8膜の梁構造の機械的強度の向上},
  booktitle = {},
  year = 2024,
}

@inproceedings{CTT100911001,
  author = {遠西美重 and 松下祥子 and 松谷晃宏},
  title = {Deep-RIEで作製したブラックGeの微細構造側壁のスキャロップ深さと反射率との関係},
  booktitle = {},
  year = 2024,
}

@inproceedings{CTT100912874,
  author = {陳科廷 and 遠西美重 and 松谷晃宏 and 松下祥子},
  title = {二枚櫛形電極を重ねたGe増感型熱利用電池構造のシミュレーションと作製},
  booktitle = {},
  year = 2024,
}

@inproceedings{CTT100911048,
  author = {佐藤美那 and 遠西美重 and 松谷晃宏},
  title = {イオンビーム照射によりアモルファス化したSi表面のXRR測定},
  booktitle = {},
  year = 2024,
}

@inproceedings{CTT100906526,
  author = {Mie Tohnishi and Sachiko Matsushita and Akihiro Matsutani},
  title = {Fabrication of nonreflective black germanium in near-infrared region up to a wavelength of 2.5 µm by SF6+O2/C4F8-plasma-based deep reactive ion etching},
  booktitle = {Proceedings of International Symposium on Dry Process},
  year = 2023,
}

@inproceedings{CTT100903971,
  author = {遠西美重 and 松谷晃宏 and 松下祥子},
  title = {Deep-RIE により作製したブラックGe 微細構造側壁のEDX 分析},
  booktitle = {},
  year = 2023,
}

@inproceedings{CTT100903970,
  author = {松谷晃宏 and 遠西美重},
  title = {デジタルカメラと回折格子によるSi のDeep-RIE プラズマの発光分光測定と EDX による高アスペクト比（HAR）エッチング側壁の分析の比較},
  booktitle = {},
  year = 2023,
}

@inproceedings{CTT100887411,
  author = {遠西 美重 and 松谷晃宏 and 生方 俊 and 松下祥子},
  title = {固体ソースH₂Oプラズマ処理したポリイミド樹脂の表面のXPS分析},
  booktitle = {},
  year = 2023,
}

@inproceedings{CTT100891318,
  author = {佐藤 美那 and 遠西美重 and 松谷晃宏},
  title = {Ar+ビーム照射により作製したKOHエッチング用SiマスクのXPS解析},
  booktitle = {},
  year = 2023,
}

@inproceedings{CTT100882365,
  author = {松谷晃宏 and 遠西美重 and 藤本美穂 and 松下祥子},
  title = {ポジ型電子線レジストSML1000をマスクとして用いたSF6-RIEによるGeのドライエッチング},
  booktitle = {},
  year = 2022,
}

@inproceedings{CTT100867900,
  author = {佐藤美那 and 遠西美重 and 松谷晃宏},
  title = {Ar＋ビーム照射によるSiアモルファスマスクを利用したKOHエッチングによる単一細胞分離プレートとマイクロ流路の作製},
  booktitle = {},
  year = 2022,
}

@inproceedings{CTT100867899,
  author = {遠西 美重 and 佐藤美那 and 松下祥子 and 松谷晃宏},
  title = {ポリイミドシート上へスパッタ成膜したCr/Ge電極の固体ソースH₂Oプラズマを用いた前処理による低抵抗化},
  booktitle = {},
  year = 2022,
}

@inproceedings{CTT100862005,
  author = {遠西 美重 and 佐藤美那 and 松下祥子 and 松谷晃宏},
  title = {固体ソースH₂O プラズマを用いて表面処理したポリイミドテープ上のCr/Cu電極の折り曲げ耐久性},
  booktitle = {},
  year = 2021,
}

@inproceedings{CTT100861980,
  author = {佐藤美那 and 遠西美重 and 松谷晃宏},
  title = {エッチングマスクとしてAr+イオンビームを照射した 微細マスクパターンを用いたKOH エッチングによるSi の微細加工},
  booktitle = {},
  year = 2021,
}

@inproceedings{CTT100846099,
  author = {遠西 美重 and 松谷 晃宏},
  title = {固体ソースH₂O プラズマ処理したポジ型フォトレジストの表面粗さの観察},
  booktitle = {},
  year = 2021,
}

@inproceedings{CTT100846100,
  author = {遠西 美重 and 松谷 晃宏},
  title = {固体ソースH₂O プラズマ処理によるガラスとPDMSの接合表面処理},
  booktitle = {},
  year = 2020,
}

@inproceedings{CTT100846101,
  author = {遠西 美重},
  title = {PDMSとガラスの酸素プラズマ処理による接合},
  booktitle = {},
  year = 2020,
}

@inproceedings{CTT100821684,
  author = {遠西 美重 and 松谷 晃宏},
  title = {固体ソースH₂O プラズマ処理によるPDMS とガラスの接合},
  booktitle = {},
  year = 2020,
}

@inproceedings{CTT100808348,
  author = {松谷晃宏 and 佐藤美那 and 遠西美重 and 藤本 美穂 and 平野 明子 and 西沢望 and 進士忠彦 and 初澤毅},
  title = {東京工業大学におけるクリーンルーム統合共用化による 組織的研究支援の推進},
  booktitle = {研究・イノベーション学会第34回年次学術大会講演要旨集},
  year = 2019,
}