国際会議発表 (査読なし・不明)

• Takafumi Katou, Taichi Inamura, 佐々木亮人, 青木克明, Kuniyuki KAKUSHIMA, Yoshinori Kataoka, Akira Nishiyama, Nobuyuki Sugii, Hitoshi Wakabayashi, KAZUO TSUTSUI, Kenji Natori, HIROSHI IWAI. Electrical characteristic of b-FeSi2, The Workshop on Future Trend of Nanoelectronics:WIMNACT 39, 2014.
• wei li, 佐々木亮人, 大図秀行, 青木克明, Kuniyuki KAKUSHIMA, 片岡好則, 西山彰, Nobuyuki Sugii, Hitoshi Wakabayashi, KAZUO TSUTSUI, Kenji Natori, HIROSHI IWAI. Resistivity Measurement of Monoclinic Thin Tungsten Oxide Film Due to Annealing Processesn, The Workshop on Future Trend of Nanoelectronics:WIMNACT 39, 2014.
• Taichi Inamura, Takafumi Katou, 佐々木亮人, 青木克明, Kuniyuki KAKUSHIMA, 片岡好則, 西山彰, Nobuyuki Sugii, Hitoshi Wakabayashi, KAZUO TSUTSUI, Kenji Natori, HIROSHI IWAI. A study on silicide semiconductors for high efficiency thin film photovoltaic devices, The Workshop on Future Trend of Nanoelectronics:WIMNACT 39, 2014.
• Taichi Inamura, 佐々木亮人, 青木克明, Kuniyuki KAKUSHIMA, 片岡好則, 西山彰, Nobuyuki Sugii, Hitoshi Wakabayashi, KAZUO TSUTSUI, Kenji Natori, HIROSHI IWAI. A stacked sputtered process for β-FeSi2 formation, ECS 224nd Meeting, ECS Transactions, Oct. 2013.
• Taichi Inamura, 佐々木亮人, 青木克明, Kuniyuki KAKUSHIMA, 片岡好則, 西山彰, Nobuyuki Sugii, Hitoshi Wakabayashi, KAZUO TSUTSUI, Kenji Natori, HIROSHI IWAI. A stacked sputtered process for β-FeSi2 formation, ECS 224nd Meeting, ECS Transactions, Oct. 2013.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 佐々木亮人, 青木克明, 片岡好則, 小林 薫平, 稲村太一, 角嶋邦之, 岩井洋. バリウムシリサイド半導体を用いたショットキー型太陽電池に関する研究, 第61回応用物理学会春季学術講演会, 2014.
• LiWei, 佐々木亮人, 大図 秀行, 青木克明, 角嶋邦之, 片岡好則, 西山彰, 杉井信之, 若林整, 筒井一生, 名取研二, 岩井洋. 単斜晶WO3薄膜抵抗率の熱処理依存性, 第61回応用物理学会春季学術講演会, 2014.
• 稲村太一, 嘉藤貴史, 佐々木亮人, 青木克明, 角嶋邦之, 片岡好則, 西山彰, 杉井信之, 若林整, 筒井一生, 名取研二, 岩井洋. β-FeSi2の抵抗率熱処理依存性, 第61回応用物理学会春季学術講演会, 2014.
• 嘉藤貴史, 稲村太一, 佐々木 亮人, 青木 克明, 角嶋邦之, 片岡好則, 西山彰, 杉井信之, 若林整, 筒井一生, 名取研二, 岩井洋. Fe層とSi層の積層スパッタにより形成されたβ-FeSi2のキャリア密度に関する研究, 第74回応用物理学会秋季学術講演会, 2013.

[ BibTeX 形式で保存 ]    [ 論文・著書をCSV形式で保存 ]    [ 特許をCSV形式で保存 ]