@misc{CTT100793210,
  author = {大見俊一郎 and 政広　泰　},
  title = {半導体デバイス電極用のシリサイド合金膜及びシリサイド合金膜の製造方法},
  howpublished = {登録特許},
  year = 2018,
  month  = {},
  note   = {特願2017-524988(2016/06/24), 再表2016/208704(2018/04/12), 特許第6455847号(2018/12/28)}
}