Author,Title,Kind,Status,ApplicantName,ApplicationDate,ApplicationNumber,PublicationDate,PublicationNumber,RegistrationDate,RegistrationNumber
"HIROSHI FUNAKUBO,TakaoShimizu,Shinnosuke Yasuoka","強誘電性薄膜、それを用いた電子素子および強誘電性薄膜の製造方法","Patent","Registered","国立大学法人東京工業大学, 国立研究開発法人産業技術総合研究所","2020/12/25","特願2021-567693",,,"特許第7260863号","2023/04/11"
"HIROSHI FUNAKUBO,TakaoShimizu,Kodai Aoyama","珪化物系合金薄膜及びその製造方法","Patent","Published","国立大学法人東京工業大学, 東ソー株式会社","2020/09/18","特願2020-157537","2022/03/31","特開2022-051194",,
"HIROSHI FUNAKUBO,TakaoShimizu,Takanori Mimura,Yuki Tashiro","強誘電性膜の製造方法、強誘電性膜、及びその用途","Patent","Published","国立大学法人東京工業大学","2020/04/27","PCT/JP2020/018031","2020/10/29","WO 2020/218617",,
"HIROSHI FUNAKUBO,TakaoShimizu,Miyu Hasegawa,Keisuke Ishihama","誘電性薄膜、誘電性薄膜素子、圧電アクチュエータ、圧電センサ、ヘッドアセンブリ、ヘッドスタックアセンブリ、ハードディスクドライブ、プリンタヘッド、及びインクジェットプリンタ装置","Patent","Published","国立大学法人東京工業大学, ＴＤＫ株式会社","2019/09/11","特願2020-546060","2021/09/30","再表2020/054779",,
"HIROSHI FUNAKUBO,TakaoShimizu,Kodai Aoyama","バリウムおよびストロンチウムを含む珪化物薄膜及びその製造方法","Patent","Published","国立大学法人東京工業大学, 東ソー株式会社","2019/09/03","特願2019-160314","2021/03/11","特開2021-038433",,
"HIROSHI FUNAKUBO,Akinori Tateyama,TakaoShimizu,yuichiro orino,Minoru Kuribayashi Kurosawa,Takahisa Shiraishi","圧電体膜の製造方法","Patent","Published","国立大学法人東京工業大学, 学校法人上智学院, 国立大学法人東北大学, 国立大学法人山梨大学","2019/01/10","特願2019-564746","2021/03/11","再表2019/139100",,
"HIROSHI FUNAKUBO,TakaoShimizu,Takanori Mimura","強誘電性薄膜、強誘電性薄膜素子、圧電アクチュエータ、圧電センサ、ヘッドアセンブリ、ヘッドスタックアセンブリ、ハードディスクドライブ、プリンタヘッド、及びインクジェットプリンタ装置","Patent","Registered","国立大学法人東京工業大学, ＴＤＫ株式会社","2018/08/31","特願2018-163377","2020/03/05","特開2020-033629","特許第7061752号","2022/04/21"
"HIROSHI FUNAKUBO,TakaoShimizu,Kodai Aoyama","ストロンチウムを含む薄膜及びその製造方法","Patent","Registered","国立大学法人東京工業大学, 東ソー株式会社","2018/02/28","特願2018-035001","2019/09/05","特開2019-149523","特許第7076093号","2022/05/19"
"HIROSHI FUNAKUBO,TakaoShimizu,Miyu Hasegawa","圧電薄膜、圧電薄膜素子、圧電アクチュエータ、圧電センサ、ヘッドアセンブリ、ヘッドスタックアセンブリ、ハードディスクドライブ、プリンタヘッド、及びインクジェットプリンタ装置","Patent","Published","国立大学法人東京工業大学, ＴＤＫ株式会社","2018/01/09","特願2018-001161","2019/07/22","特開2019-121702",,
"HIROSHI FUNAKUBO,TakaoShimizu,Yuichi Nemoto","圧電薄膜、圧電薄膜素子、圧電アクチュエータ、圧電センサ、ヘッドアセンブリ、ヘッドスタックアセンブリ、ハードディスクドライブ、プリンタヘッド、及びインクジェットプリンタ装置","Patent","Published","国立大学法人東京工業大学, ＴＤＫ株式会社","2017/10/25","特願2017-206190","2019/05/23","特開2019-079948",,
"HIROSHI FUNAKUBO,TakaoShimizu,Yuichi Nemoto","圧電薄膜、圧電薄膜素子、圧電アクチュエータ、圧電センサ、ヘッドアセンブリ、ヘッドスタックアセンブリ、ハードディスクドライブ、プリンタヘッド、及びインクジェットプリンタ装置","Patent","Published","国立大学法人東京工業大学, ＴＤＫ株式会社","2016/12/22","特願2017-558284","2018/10/18","再表2017/111090",,
"TakaoShimizu,HIROSHI FUNAKUBO,Kiriha Katayama,Takanori Mimura","強誘電性薄膜、電子素子及び製造方法","Patent","Registered","国立大学法人東京工業大学","2015/08/28","特願2016-545654","2017/06/15","再表2016/031986","特許第6661197号","2020/02/14"
"HIROSHI FUNAKUBO,TakaoShimizu,Junichi Kimura","非鉛誘電体薄膜形成用液組成物及びその薄膜の形成方法並びにその方法で形成された非鉛誘電体薄膜","Patent","Published","国立大学法人東京工業大学, 三菱マテリアル株式会社","2014/08/27","特願2014-172543","2015/06/11","特開2015-107904",,
"HIROSHI FUNAKUBO,TakaoShimizu,Junichi Kimura","非鉛誘電体薄膜及びこの薄膜形成用組成物並びにこの薄膜の形成方法","Patent","Published","国立大学法人東京工業大学, 三菱マテリアル株式会社","2014/08/27","特願2014-172455","2015/06/11","特開2015-107905",,
"HIROSHI FUNAKUBO,Hiroki Tanaka,TakaoShimizu","ペロブスカイト型酸化物層の形成方法、ペロブスカイト型酸化物層及びそれを用いた用途","Patent","Published","国立大学法人東京工業大学, 独立行政法人国立高等専門学校機構 鶴岡工業高等専門学校","2014/03/14","特願2014-052545","2015/10/05","特開2015-175030",,