発明者,発明の名称,種別,状態,出願人,出願日,出願番号,公開日,公開番号,登録日,登録番号
"舟窪浩,白石貴久,安岡慎之介,水谷涼一,大田怜佳,召田　雅実　,楠瀬　好郎,上岡　義弘　,末本　祐也　,飯浜　準也　","窒化アルミニウムスカンジウム膜及び強誘電体素子","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 東ソー株式会社","2023/03/30","PCT/JP2023/013181","2023/10/05","WO 2023/190869",,
"舟窪浩,黒澤実,伊東　良晴,白石貴久,若林　剛","ビスマス原子、カリウム原子、又は鉛原子をＡサイトに含む強誘電体ペロブスカイト材料の製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 株式会社コイケ","2021/07/09","特願2021-114144","2023/01/20","特開2023-010186",,
"舟窪浩,清水荘雄,安岡慎之介,上原　雅人,山田　浩志　,秋山　守人","強誘電性薄膜、それを用いた電子素子および強誘電性薄膜の製造方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 国立研究開発法人産業技術総合研究所","2020/12/25","特願2021-567693",,,"特許第7260863号","2023/04/11"
"舟窪浩,清水荘雄,青山航大,召田　雅実　,秋池　良　","珪化物系合金薄膜及びその製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 東ソー株式会社","2020/09/18","特願2020-157537","2022/03/31","特開2022-051194",,
"舟窪浩,清水荘雄,三村和仙,中村　美子,志村　礼司郎,田代裕貴","強誘電性膜の製造方法、強誘電性膜、及びその用途","特許","公開","国立大学法人東京工業大学","2020/04/27","PCT/JP2020/018031","2020/10/29","WO 2020/218617",,
"舟窪浩,清水荘雄,長谷川光勇,石濱圭佑,佐藤　祐介　,佐藤　和希子　,石田　未来　","誘電性薄膜、誘電性薄膜素子、圧電アクチュエータ、圧電センサ、ヘッドアセンブリ、ヘッドスタックアセンブリ、ハードディスクドライブ、プリンタヘッド、及びインクジェットプリンタ装置","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, ＴＤＫ株式会社","2019/09/11","特願2020-546060","2021/09/30","再表2020/054779",,
"舟窪浩,清水荘雄,青山航大,召田　雅実　,秋池　良　","バリウムおよびストロンチウムを含む珪化物薄膜及びその製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 東ソー株式会社","2019/09/03","特願2019-160314","2021/03/11","特開2021-038433",,
"舟窪浩,森下　純平,佐藤　祐介","圧電薄膜、圧電薄膜素子、圧電アクチュエータ、圧電センサ、ヘッドアセンブリ、ヘッドスタックアセンブリ、ハードディスクドライブ、プリンタヘッド、及びインクジェットプリンタ装置","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, ＴＤＫ株式会社","2019/02/26","特願2019-032998","2020/09/03","特開2020-140975",,
"舟窪浩,舘山明紀,伊東 良晴,清水荘雄,折野裕一郎,黒澤実,内田 寛,白石貴久,木口 賢紀,熊田 伸弘","圧電体膜の製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 学校法人上智学院, 国立大学法人東北大学, 国立大学法人山梨大学","2019/01/10","特願2019-564746","2021/03/11","再表2019/139100",,
"舟窪浩,清水荘雄,三村和仙,志村　礼司郎,井上　ゆか梨,佐藤　祐介","強誘電性薄膜、強誘電性薄膜素子、圧電アクチュエータ、圧電センサ、ヘッドアセンブリ、ヘッドスタックアセンブリ、ハードディスクドライブ、プリンタヘッド、及びインクジェットプリンタ装置","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, ＴＤＫ株式会社","2018/08/31","特願2018-163377","2020/03/05","特開2020-033629","特許第7061752号","2022/04/21"
"黒澤実,孔徳卿,石河　睦生,舟窪浩,伊東　良晴,舘山明紀","液中推進装置","特許","公開","国立大学法人東京工業大学","2018/08/31","特願2018-163232","2020/03/05","特開2020-032956",,
"舟窪浩,黒川満央,倉持　豪人,召田　雅実","シリコン系薄膜及びその製造方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 東ソー株式会社","2018/03/30","特願2018-068515","2018/11/08","特開2018-174325","特許第7076096号","2022/05/19"
"舟窪浩,清水荘雄,青山航大,召田　雅実,倉持　豪人,秋池　良","ストロンチウムを含む薄膜及びその製造方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 東ソー株式会社","2018/02/28","特願2018-035001","2019/09/05","特開2019-149523","特許第7076093号","2022/05/19"
"舟窪浩,清水荘雄,長谷川光勇,佐藤　祐介　,佐藤　和希子　,石田　未来　","圧電薄膜、圧電薄膜素子、圧電アクチュエータ、圧電センサ、ヘッドアセンブリ、ヘッドスタックアセンブリ、ハードディスクドライブ、プリンタヘッド、及びインクジェットプリンタ装置","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, ＴＤＫ株式会社","2018/01/09","特願2018-001161","2019/07/22","特開2019-121702",,
"舟窪浩,清水荘雄,根本祐一,佐藤　祐介　,森下　純平　,佐藤　和希子","圧電薄膜、圧電薄膜素子、圧電アクチュエータ、圧電センサ、ヘッドアセンブリ、ヘッドスタックアセンブリ、ハードディスクドライブ、プリンタヘッド、及びインクジェットプリンタ装置","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, ＴＤＫ株式会社","2017/10/25","特願2017-206190","2019/05/23","特開2019-079948",,
"舟窪浩,清水荘雄,根本祐一,政井　琢　,佐藤　祐介　,森下　純平","圧電薄膜、圧電薄膜素子、圧電アクチュエータ、圧電センサ、ヘッドアセンブリ、ヘッドスタックアセンブリ、ハードディスクドライブ、プリンタヘッド、及びインクジェットプリンタ装置","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, ＴＤＫ株式会社","2016/12/22","特願2017-558284","2018/10/18","再表2017/111090",,
"舟窪浩,上原睦雄,倉持　豪人,召田　雅実","合金膜","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 東ソー株式会社","2015/08/28","特願2015-169146","2017/03/02","特開2017-043821",,
"清水荘雄,舟窪浩,片山きりは,三村和仙","強誘電性薄膜、電子素子及び製造方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学","2015/08/28","特願2016-545654","2017/06/15","再表2016/031986","特許第6661197号","2020/02/14"
"舟窪浩,島田　幹夫,饗場　利明,伊福　俊博,林　潤平,久保田　純,島川　祐一,東　正樹,中村　嘉孝","強誘電体薄膜","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, キヤノン株式会社, 国立大学法人京都大学","2015/06/29","特願2015-129659","2016/01/14","特開2016-006876","特許第6053879号","2016/12/09"
"舟窪浩,清水荘雄,木村純一,桜井　英章,藤井　順,曽山　信幸","非鉛誘電体薄膜形成用液組成物及びその薄膜の形成方法並びにその方法で形成された非鉛誘電体薄膜","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 三菱マテリアル株式会社","2014/08/27","特願2014-172543","2015/06/11","特開2015-107904",,
"舟窪浩,清水荘雄,木村純一,桜井　英章　,藤井　順　,曽山　信幸","非鉛誘電体薄膜及びこの薄膜形成用組成物並びにこの薄膜の形成方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 三菱マテリアル株式会社","2014/08/27","特願2014-172455","2015/06/11","特開2015-107905",,
"舟窪浩,田中宏樹,清水荘雄,内山　潔","ペロブスカイト型酸化物層の形成方法、ペロブスカイト型酸化物層及びそれを用いた用途","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 独立行政法人国立高等専門学校機構 鶴岡工業高等専門学校","2014/03/14","特願2014-052545","2015/10/05","特開2015-175030",,
"舟窪浩,安井伸太郎,及川貴弘,長田　潤一,内田　寛,久保田　純,三浦　薫,薮田　久人,渡邉　隆之,林　潤平","圧電素子、液体吐出ヘッドおよび液体吐出装置","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, キヤノン株式会社, 学校法人上智学院","2013/02/26","特願2013-035931","2013/10/10","特開2013-211539","特許第6176942号","2017/07/21"
"舟窪浩,黒澤実,石河　睦生,榮西　弘,白石　貴久,坂下　幸雄","ペロブスカイト型酸化物膜及びそれを用いた強誘電体膜、強誘電体素子、ペロブスカイト型酸化物膜の製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 富士フイルム株式会社","2011/03/24","特願2011-065517","2012/06/07","特開2012-106902",,
"舟窪浩,山田　智明,安井伸太郎,長田　潤一,矢澤　慶祐,内田　寛　,久保田　純,三浦　薫,薮田　久人　,邉　隆之,林　潤平","圧電材料、圧電素子、液体吐出ヘッドおよび超音波モータ","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 学校法人上智学院, キヤノン株式会社","2010/12/28","特願2010-292850","2012/04/26","特開2012-084828","特許第5832091号","2015/11/06"
"舟窪浩,山田　智明,安井　伸太郎,長田　潤一,矢澤　慶祐,内田　寛,久保田　純,三浦　薫,薮田　久人,渡邉　隆之","圧電材料、圧電素子、液体吐出ヘッドおよび超音波モータ","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 学校法人上智学院, キヤノン株式会社","2010/12/28","特願2010-292850","2012/04/26","特開2012-084828",,
"舟窪浩,島田　幹夫,饗場　利明,伊福　俊博,林　潤平,久保田　純,島川　祐一,東　正樹,中村　嘉孝","強誘電体薄膜の製造方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, キヤノン株式会社, 国立大学法人京都大学","2010/09/29","特願2010-218892","2011/05/12","特開2011-093788","特許第5826476号","2015/10/23"
"舟窪浩,島田　幹夫,饗場　利明,伊福　俊博,林　潤平,久保田　純,島川　祐一,東　正樹,中村　嘉孝","強誘電体薄膜","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, キヤノン株式会社, 国立大学法人京都大学","2010/09/29","特願2010-218892","2011/05/12","特開2011-093788",,
"舟窪浩,山田　智明,松島　正明,細川　忠利,山本　智","非晶質基材上に結晶配向した導電性酸化物層およびその形成方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, フルウチ化学株式会社","2010/09/16","特願2010-207905","2012/03/29","特開2012-062529",,
"舟窪浩,矢澤　慶祐,内田　寛　,久保田　純,伊福　俊博,飯島　高志,李　鳳淵","圧電材料および圧電素子","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, キヤノン株式会社, 学校法人上智学院, 独立行政法人産業技術総合研究所","2009/12/24","特願2009-293305","2010/08/19","特開2010-183067","特許第5599185号","2014/08/22"
"舟窪浩,矢澤　慶祐,内田　寛,久保田　純,伊福　俊博,飯島　高志,李　鳳淵","圧電材料および圧電素子","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, キヤノン株式会社, 学校法人上智学院, 独立行政法人産業技術総合研究所","2009/12/24","特願2009-293305","2010/08/19","特開2010-183067",,
"舟窪浩,藤澤　隆志,宇津木　覚,河目　直之","ペロブスカイト構造酸化物薄膜の作製方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, キャノンオプトロン株式会社","2009/09/07","特願2009-206439","2011/03/24","特開2011-057475",,
"舟窪浩,渡邉　隆之,松田　堅義,齋藤　宏,熊田　伸弘,飯島　高志,李　鳳淵","金属酸化物および圧電材料","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, キヤノン株式会社, 国立大学法人山梨大学, 独立行政法人産業技術総合研究所","2009/07/28","特願2009-175789","2010/03/11","特開2010-053028","特許第5566059号","2014/06/27"
"舟窪浩,渡邉　隆之,松田　堅義,齋藤　宏,熊田　伸弘,飯島　高志,李　鳳淵","金属酸化物および圧電材料","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, キヤノン株式会社, 国立大学法人山梨大学, 独立行政法人産業技術総合研究所","2009/07/28","特願2009-175789","2010/03/11","特開2010-053028",,
"舟窪浩,久保田　純,三浦　薫,林　潤平,伊福　俊博,内田　寛,東　正樹,ｽﾐﾉﾙﾜ ｵﾙｶﾞ ｱﾚｷｻﾝﾄﾞﾛﾜ,飯島　高志,岡村　総一郎,和田　智志,熊田　伸弘","金属酸化物および圧電材料","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, キヤノン株式会社, 学校法人上智学院, 国立大学法人京都大学, 独立行政法人産業技術総合研究所, 学校法人東京理科大学, 国立大学法人山梨大学","2009/07/24","特願2009-173542","2010/03/11","特開2010-053024","特許第5354538号","2013/09/06"
"舟窪浩,久保田 純,三浦 薫,伊福 俊博,林 潤平,東 正樹,スミノルワ オルガ アレキサンドロワ,内田 寛,熊田 伸弘,和田 智志,飯島 高志,岡村 総一郎","金属酸化物および圧電材料","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, キヤノン株式会社, 国立大学法人京都大学, 学校法人上智学院, 国立大学法人山梨大学, 独立行政法人産業技術総合研究所, 学校法人東京理科大学","2009/07/24","特願2009-173542","2010/03/11","特開2010-053024",,
"舟窪浩,古田　達雄,三浦　薫,武田　憲一,久保田　純,東　正樹,熊田　伸弘,和田　智志,飯島　高志,岡村　総一郎","金属酸化物、圧電材料および圧電素子","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, キヤノン株式会社, 国立大学法人山梨大学, 国立大学法人京都大学, 独立行政法人産業技術総合研究所, 学校法人東京理科大学","2009/05/20","特願2009-122468","2010/01/14","特開2010-006688","特許第5219921号","2013/03/15"
"舟窪浩,古田　達雄,三浦　薫,武田　憲一,久保田　純,東　正樹,熊田　伸弘,和田　智志,飯島　高志,岡村　総一郎","金属酸化物、圧電材料および圧電素子","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, キヤノン株式会社, 国立大学法人山梨大学, 国立大学法人京都大学, 独立行政法人産業技術総合研究所, 学校法人東京理科大学","2009/05/20","特願2009-122468","2010/01/14","特開2010-006688",,
"舟窪浩,林  潤平,伊福  俊博,張  祖依,和田  智志,大和  慶祐,熊田  伸弘,東  正樹,飯島  高志,岡村  総一郎","圧電材料","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, キヤノン株式会社, 国立大学法人山梨大学, 国立大学法人京都大学, 独立行政法人産業技術総合研究所, 学校法人東京理科大学","2009/02/27","特願2009-047136","2009/11/05","特開2009-256186",,
"舟窪浩,和田智志,大和慶祐,熊田伸弘,東正樹　,飯島高志,岡村総一郎,林潤平,伊福俊博,張祖依","圧電材料","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, キヤノン株式会社, 国立大学法人山梨大学, 国立大学法人京都大学, 独立行政法人産業技術総合研究所, 学校法人東京理科大学","2009/02/27","特願2009-047136","2009/11/05","特開2009-256186","特許第5355148号","2013/09/06"
"舟窪浩,斎藤  宏,三浦  薫,松田  堅義,高島  健二,東  正樹,飯島  高志,岡村  総一郎,熊田  伸弘,和田  智志","酸窒化物圧電材料及びその製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, キヤノン株式会社, 国立大学法人京都大学, 国立大学法人山梨大学, 独立行政法人産業技術総合研究所, 学校法人東京理科大学","2008/12/18","特願2008-322831","2010/07/01","特開2010-143788",,
"山田　智明,舟窪浩,加茂　嵩史","チューナブル素子およびその製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学","2008/08/28","特願2008-219661","2010/03/11","特開2010-053399",,
"舟窪浩,澤田　豊,關　良之,大島　憲昭,千葉　洋一","金属イリジウム及び／又はイリジウム酸化物薄膜の製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 東ソー株式会社","2008/03/26","特願2008-079643","2009/10/15","特開2009-235439",,
"舟窪浩,林　潤平,松田　堅義,福井　哲朗","エピタキシャル膜、圧電体素子、強誘電体素子、これらの製造方法及び液体吐出ヘッド","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, キヤノン株式会社","2008/03/25","特願2008-077627","2008/11/13","特開2008-277783",,
"舟窪浩,中木　寛,藤澤　隆志,加茂　嵩史,坂下　幸雄","機能性酸化物構造体","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 富士フイルム株式会社","2008/03/03","特願2008-052319","2009/09/17","特開2009-212225","特許第4977641号","2012/04/20"
"舟窪浩,中木　寛,藤澤　隆志,加茂　嵩史,坂下　幸雄","機能性酸化物構造体、及び機能性酸化物構造体の製造方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 富士フイルム株式会社","2008/03/03","特願2008-052318","2009/09/17","特開2009-208985","特許第4977640号","2012/04/20"
"舟窪浩,青木　活水,武田　憲一,福井　哲朗","圧電体素子、これを用いた液体吐出ヘッド及び超音波モーター","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, キヤノン株式会社","2007/09/18","特願2007-240815","2008/04/24","特開2008-098627",,
"舟窪浩,安井　伸太郎,西田　謙,青木　活水,福井　哲朗,武田　憲一","圧電体素子及び液体吐出ヘッド","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, キヤノン株式会社","2007/09/18","特願2007-240941","2008/10/30","特開2008-263158",,
"舟窪浩,加茂　嵩史,西田　謙","SrRuO3膜の製法と得られる膜","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, フルウチ化学株式会社","2007/03/26","特願2007-080184","2008/10/09","特開2008-240040","特許第4858912号","2011/11/11"
"舟窪浩,横山　信太郎,西田　謙,河東田　隆,福井　哲朗,松田　堅義,武田　憲一,青木　活水,伊福　俊博","圧電体素子、それを用いた液体吐出ヘッド、及び、光学素子","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, キヤノン株式会社","2007/03/12","特願2007-062595","2007/10/18","特開2007-273976",,
"舟窪浩,横山　信太郎,福井　哲朗,武田　憲一,松田　堅義","ペロブスカイト型酸化物薄膜の成膜方法、圧電素子、液体吐出ヘッドおよび液体吐出装置","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, キヤノン株式会社","2006/10/20","特願2006-286106","2007/06/07","特開2007-138292",,
"舟窪浩,横山　信太郎,福井　哲朗,武田　憲一,松田　堅義","成膜方法及び酸化物薄膜素子","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, キヤノン株式会社","2006/10/20","特願2006-286094","2007/06/07","特開2007-142385",,
"舟窪浩,横山　信太郎,金　容寛,中木　寛,碇山　理究,伊福　俊博,松田　堅義,青木　活水","エピタキシャル酸化物膜、圧電膜、圧電膜素子、圧電膜素子を用いた液体吐出ヘッド及び液体吐出装置","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, キヤノン株式会社","2006/08/28","特願2006-231238","2007/11/01","特開2007-288123","特許第5041765号","2012/07/20"
"舟窪浩,横山　信太郎,岡本　賢,青木　活水,武田　憲一,伊福　俊博,松田　堅義","圧電体素子、それを用いた液体吐出ヘッド、および液体吐出装置","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, キヤノン株式会社","2006/08/23","特願2006-227043","2007/04/05","特開2007-088442",,
"舟窪浩,横山　信太郎,松田　堅義,武田　憲一,福井　哲朗,伊福　俊博,青木　活水","ペブロスカイト型酸化物、これを用いた圧電素子、液体吐出ヘッド、液体吐出装置及びペブロスカイト型酸化物の製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, キヤノン株式会社","2006/08/23","特願2006-227005","2007/04/05","特開2007-084424",,
"舟窪浩,横山　信太郎,岡本　賢,伊福　俊博,松田　堅義,青木　活水","圧電体とその製造方法、圧電素子とそれを用いた液体吐出ヘッド及び液体吐出装置","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, キヤノン株式会社","2006/08/23","特願2006-227051","2007/04/05","特開2007-088443",,
"舟窪浩,伊福　俊博,武田　憲一,福井　哲朗","圧電体、圧電体素子、圧電体素子を用いた液体吐出ヘッド及び液体吐出装置","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, キヤノン株式会社","2006/07/18","特願2006-196114","2008/02/07","特開2008-024532",,
"舟窪浩,横山　信太郎,金　容寛,中木　寛,上野　梨紗子,岡本　庄司,伊福　俊博,福井　哲朗,武田　憲一","圧電体素子、液体吐出ヘッド及び液体吐出装置","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, キヤノン株式会社","2006/01/16","特願2006-007529","2007/04/12","特開2007-096248",,
"舟窪浩,岡本　庄司,木村　武,秋山　賢輔,金子　智","積層構造体、半導体装置およびトランジスタ","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 神奈川県","2005/09/29","特願2005-284937","2007/04/12","特開2007-092147",,
"舟窪浩,上野　梨紗子,内田　寛,幸田　清一郎,中木　寛,近藤　正雄","強誘電体材料、その製造方法及び強誘電体メモリ","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 富士通株式会社","2004/12/22","特願2004-371905","2006/07/06","特開2006-176366",,
"舟窪浩,角　章弘,小菅　博明,大島　憲昭","SrIrO3に基づく金属酸化物の薄膜の製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 東ソー株式会社","2004/08/31","特願2004-253356","2006/03/16","特開2006-070310",,
"舟窪浩,鈴木　宗泰","ビスマス層状化合物系誘電体薄膜","特許","公開","国立大学法人東京工業大学","2004/08/31","特願2004-253286","2006/03/16","特開2006-073275",,