発明者,発明の名称,種別,状態,出願人,出願日,出願番号,公開日,公開番号,登録日,登録番号
"布施新一郎,北村宙士,小竹佑磨,中村浩之","非対称型リン酸トリエステルの製造方法、対称型リン酸トリエステルの製造方法、リン酸エステルの製造方法、及び、有機リン化合物の製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 横河電機株式会社","2022/02/04","PCT/JP2022/004557","2022/09/09","WO 2022/185843",,
"布施新一郎,増田耕志郎,小竹佑磨,中村浩之","アミドの製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 横河電機株式会社","2020/02/03","特願2021-501811","2021/12/16","再表2020/175023",,
"布施新一郎,小竹佑磨,中村浩之","アミドの製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 横河電機株式会社","2019/12/11","特願2020-563042","2021/11/04","再表2020/137545",,
"布施新一郎,中村浩之,小竹佑磨,宮崎　俊一,伊東　篤志,小川　潤一","アミドの製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 横河電機株式会社","2019/05/28","特願2020-525410","2021/02/12","再表2019/239879",,
"布施新一郎,中村浩之,小竹佑磨,宮崎　俊一,伊東　篤志,小川　潤一","アミドの製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 横河電機株式会社","2019/05/28","特願2020-525411","2021/02/12","再表2019/239880",,
"布施新一郎,小竹佑磨,中村浩之","フローリアクターを用いるＮ-カルボキシ無水物の合成方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 保土谷化学工業株式会社","2019/05/21","特願2019-094952","2020/01/23","特開2020-011948","特許第7362055号","2023/10/06"
"布施新一郎,和田雄二,米谷真人,高橋　孝志,増井　悠　,海宝　龍夫　,早瀬　修二　,尾込　裕平","色素増感型光電変換素子用のヘテロ環リンカー基を有する完全有機色素化合物、およびそれを用いた光電変換素子","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 関東天然瓦斯開発株式会社, 国立大学法人九州工業大学, 学校法人都築第一学園（横浜薬科大学）","2015/10/13","特願2015-201952","2017/04/20","特開2017-076648","特許第6534331号","2019/06/07"
"布施新一郎,和田雄二,米谷真人,高橋　孝志,増井　悠,海宝　龍夫,早瀬　修二,尾込　裕平","光電変換用増感色素、その製造方法および該色素を用いた光電変換素子","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 関東天然瓦斯開発株式会社, 国立大学法人九州工業大学, 学校法人都築第一学園（横浜薬科大学）","2015/02/25","特願2015-035123","2016/09/01","特開2016-157837",,
"高橋孝志,布施新一郎,和田雄二,米谷真人,海会　龍夫,早瀬　修二　,伊牟田　聡","色素増感型光電変換素子用の非平面型構造を有する完全有機色素化合物、およびそれを用いた光電変換素子","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 関東天然瓦斯開発株式会社, 国立大学法人九州工業大学","2013/02/28","特願2014-502382","2015/07/30","特開(再表)2013/129605",,
"高橋孝志,布施新一郎,和田雄二,米谷真人,海宝　龍夫,早瀬　修二,伊牟田　聡","色素増感型光電変換素子用の高活性完全有機色素化合物、およびそれを用いた光電変換素子","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 関東天然瓦斯開発株式会社, 国立大学法人九州工業大学, 株式会社ケムジェネシス","2012/03/01","特願2012-045914","2013/09/12","特開2013-181108",,
"高橋孝志,土井隆行,布施新一郎,新家　一男,高木　基樹,広川　貴次,稲葉　健一,田中　正洋","TDP１阻害活性を有する環状エノン化合物","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 独立行政法人産業技術総合研究所, 社団法人バイオ産業情報化コンソーシアム","2011/12/12","特願2011-270875","2013/06/20","特開2013-121930",,