発明者,発明の名称,種別,状態,出願人,出願日,出願番号,公開日,公開番号,登録日,登録番号
"篠崎和夫,藤原　和崇,柿沼　宏彰,脇谷　尚樹,鈴木　久男","硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性、耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 三菱マテリアル株式会社, 国立大学法人静岡大学","2016/08/26","特願2016-165393","2018/03/01","特開2018-030215","特許第6784389号","2020/10/27"
"篠崎和夫,柿沼　宏彰　,藤原　和崇　,脇谷　尚樹,鈴木　久男","硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性、耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 国立大学法人静岡大学, 三菱マテリアル株式会社","2015/02/26","特願2015-037211","2016/09/05","特開2016-159366","特許第6423286号","2018/10/26"
"篠崎和夫,柿沼　宏彰　,藤原　和崇,脇谷　尚樹,鈴木　久男　","湿式高速断続切削加工においてすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 三菱マテリアル株式会社, 国立大学法人静岡大学","2014/12/25","特願2014-262568","2016/07/07","特開2016-120575","特許第6423265号","2018/10/26"
"篠崎和夫,柿沼　宏彰　,藤原　和崇　,脇谷　尚樹　, 鈴木　久男　","高速断続切削加工においてすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 三菱マテリアル株式会社, 国立大学法人静岡大学","2014/10/30","特願2014-221254","2016/05/23","特開2016-087709","特許第6488106号","2019/03/01"
"篠崎和夫,柿沼　宏彰,大橋　忠一　,長田　晃　,脇谷　尚樹　,鈴木　久男　","高速断続切削加工においてすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 三菱マテリアル株式会社, 国立大学法人静岡大学","2014/01/30","特願2014-015538","2015/08/03","特開2015-139863","特許第6364195号","2018/07/06"
"篠崎和夫,柿沼　宏彰,高岡　秀充,長田　晃,桜井　英章,黒光　祥郎,脇谷　尚樹,鈴木　久男","すぐれた耐チッピング性、耐剥離性、耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 三菱マテリアル株式会社, 国立大学法人静岡大学","2013/03/22","特願2013-060386","2014/02/27","特開2014-037048",,
"篠崎和夫,柿沼　宏彰,高岡　秀充,長田　晃,脇谷　尚樹,鈴木　久男","すぐれた潤滑性を発揮する表面被覆切削工具","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 三菱マテリアル株式会社, 国立大学法人静岡大学","2013/03/12","特願2013-048634","2014/09/22","特開2014-172136",,
"篠崎和夫,柿沼　宏彰,高岡　秀充,長田　晃,脇谷　尚樹,鈴木　久男","高速断続切削加工においてすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 三菱マテリアル株式会社, 国立大学法人静岡大学","2013/01/24","特願2013-010777","2014/08/07","特開2014-140929","特許第6257142号","2017/12/15"
"篠崎和夫,柿沼　宏彰,高岡　秀充,長田　晃,脇谷　尚樹,鈴木　久男","高速重切削においてすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 三菱マテリアル株式会社, 国立大学法人静岡大学","2012/12/04","特願2012-264891","2013/07/18","特開2013-139076",,
"篠崎和夫,柿沼　宏彰,高岡　秀充　,長田　晃　,脇谷　尚樹,鈴木　久男","高速断続切削加工においてすぐれた潤滑性、耐チッピング性、耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 三菱マテリアル株式会社, 国立大学法人静岡大学","2012/03/21","特願2012-063413","2013/09/30","特開2013-193171","特許第5876755号","2016/01/29"
"篠崎和夫,柿沼　宏彰,高岡　秀充,長田　晃　,脇谷　尚樹,鈴木　久男","すぐれた耐チッピング性、耐剥離性、耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 国立大学法人静岡大学, 三菱マテリアル株式会社","2011/12/27","特願2011-285681","2013/07/08","特開2013-132730","特許第5876724号","2016/01/29"
"篠崎和夫,柿沼　宏彰　,高岡　秀充　,長田　晃　,脇谷　尚樹　,鈴木　久男","耐摩耗性に優れた表面被覆切削工具の製造方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 三菱マテリアル株式会社, 国立大学法人静岡大学","2011/09/05","特願2011-192437","2013/03/21","特開2013-053344","特許第5771483号","2015/07/03"
"篠崎和夫,高岡　秀充　,長田　晃　,脇谷　尚樹,鈴木　久男","耐磨耗性に優れた表面被覆切削工具の製造方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 三菱マテリアル株式会社, 国立大学法人静岡大学","2011/02/24","特願2011-038435","2012/09/10","特開2012-171083","特許第5739189号","2015/05/01"
"篠崎和夫,田中　貴司,脇谷　尚樹,長田　晃,高岡　秀充","耐摩耗性にすぐれたミーリング加工用表面被覆切削工具およびその製造方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 国立大学法人静岡大学, 三菱マテリアル株式会社","2010/03/19","特願2010-064233","2011/10/06","特開2011-194518","特許第5555834号","2014/06/13"
"篠崎和夫,大野　翼,田中　貴司,櫻井修,クロス ジェフリー スコット,脇谷　尚樹","積層膜およびその製膜方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 国立大学法人静岡大学","2010/03/19","特願2010-065244","2011/10/06","特開2011-195396",,
"篠崎和夫,田中　貴司,脇谷　尚樹,長田　晃,高岡　秀充　","耐摩耗性にすぐれたターニング加工用表面被覆切削工具およびその製造方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 国立大学法人静岡大学, 三菱マテリアル株式会社","2010/03/19","特願2010-064234","2011/10/06","特開2011-194519","特許第5555835号","2014/06/13"
"篠崎和夫,脇谷尚樹,長田　晃","高速ミーリング加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具およびその製造方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 三菱マテリアル株式会社","2007/09/19","特願2007-241962","2009/04/09","特開2009-072838","特許第5035980号","2012/07/13"
"篠崎和夫,脇谷尚樹,長田　晃","高速ミーリング加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具およびその製造方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 三菱マテリアル株式会社","2007/09/19","特願2007-241961","2009/04/09","特開2009-072837","特許第5035979号","2012/07/13"
"篠崎和夫,高　鉉龍,脇谷尚樹,木口賢紀,近藤　正雄,丸山　研二","ペロブスカイト型酸化物質薄膜の成膜方法および積層体","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 富士通株式会社","2007/09/11","特願2007-236002","2009/04/02","特開2009-070926",,
"篠崎和夫,脇谷尚樹,長田　晃","高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具およびその製造方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 三菱マテリアル株式会社","2007/03/19","特願2007-071120","2008/10/02","特開2008-229759","特許第4968674号","2012/04/13"
"田中順三,脇谷尚樹,篠崎和夫,生駒　俊之","生体親和性の高いアパタイト被覆磁性ナノ粒子","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 独立行政法人物質・材料研究機構","2006/11/30","特願2006-323621","2008/06/19","特開2008-137911","特許第5154785号","2012/12/14"
"篠崎和夫,脇谷尚樹,クロス　ジェフリー　スコット","不揮発性半導体記憶装置及びその書き込み方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 富士通株式会社","2005/09/26","特願2005-277712","2007/04/05","特開2007-088349",,