発明者,発明の名称,種別,状態,出願人,出願日,出願番号,公開日,公開番号,登録日,登録番号
"横井俊之,保田修平,松本剛,山田駿介","カルボニル基含有化合物の製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学","2021/09/07","特願2021-145502","2023/03/17","特開2023-038662",,
"横井俊之,小野塚　博暁　,安　龍杰　,坂本　尚之　,堤内　出　","ＣＯＮ型ゼオライト、ＣＯＮ型ゼオライトの製造方法、触媒および低級オレフィンの製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 人工光合成化学プロセス技術研究組合, 三菱ケミカル株式会社","2021/09/06","特願2021-144835","2023/03/16","特開2023-037978",,
"横井俊之,小野塚　博暁　,原　雅寛　,堤内　出　,大久保　達也　,脇原　徹　,伊與木　健太　","ＣＯＮ型ゼオライト、ＣＯＮ型ゼオライトの製造方法、及び低級オレフィンの製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 三菱ケミカル株式会社, 人工光合成化学プロセス技術研究組合, 国立大学法人東京大学","2021/03/11","特願2021-039631","2021/09/27","特開2021-147310",,
"横井俊之,黒田　一幸,荒木　泰博,松本　隆也","α-オレフィンの製造方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, ＥＮＥＯＳ株式会社, 学校法人早稲田大学","2019/05/27","特願2019-098390","2020/12/03","特開2020-192491","特許第7320216号","2023/07/26"
"横井俊之,國武祐輔,吉川(角野)　由美子,原　雅寛　","ＡＥＩ型ゼオライトの製造方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 三菱ケミカル株式会社","2016/11/29","特願2016-231424","2018/06/07","特開2018-087105","特許第6798282号","2020/11/24"
"横井俊之,大友亮一","アンヒドロ糖アルコールの製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学","2015/12/24","特願2015-251476","2016/07/07","特開2016-121143",,
"横井俊之,Mathias FEYEN  ,Stefan MAURER ,Ulrich MULLER,Xinhe BAO,Weiping ZHANG,Dirk DE VOS,Hermann GIES,Feng-Shou XIAO ,Bilge YILMAZ ","有機テンプレートを使用しない合成による二金属交換ゼオライトベータ、およびＮＯｘの選択触媒還元においてそれを使用する方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, BASF SE","2014/12/30","特願2016-544525","2017/02/02","特開特表2017/503744","特許第6509877号","2019/04/12"
"辰巳敬,横井俊之,吉岡真人,瀬戸山　亨　","プロピレンの製造方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 三菱化学株式会社","2012/05/23","特願2012-117662","2013/12/09","特開2013-245163","特許第5895705号","2016/03/11"
"辰巳敬,横井俊之,今井　裕之,瀬戸山　亨,林　幹夫","アルミノシリケートの製造方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 三菱化学株式会社","2011/06/22","特願2011-138099","2013/01/07","特開2013-001637","特許第5783527号","2015/07/31"
"辰巳敬,横井俊之,今井　裕之,宮路　淳幸,池口　真之,秋山　聰","不飽和炭化水素製造用触媒、その製造方法および不飽和炭化水素の製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 昭和電工株式会社, 住友化学株式会社, 三井化学株式会社","2011/06/13","特願2011-130906","2013/01/07","特開2013-000610",,
"辰巳敬,横井俊之,瀬戸山　亨　,林　幹夫","RTH型ゼオライトの製造方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 三菱化学株式会社, 株式会社三菱化学科学技術研究センター","2009/11/20","特願2009-265080","2010/07/08","特開2010-150128","特許第5419042号","2013/11/29"