発明者,発明の名称,種別,状態,出願人,出願日,出願番号,公開日,公開番号,登録日,登録番号
"大友明,相馬拓人,加渡　幹尚　","酸化ガリウム系半導体の製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, トヨタ自動車株式会社","2020/09/17","特願2020-156405","2022/03/30","特開2022-050042",,