発明者,発明の名称,種別,状態,出願人,出願日,出願番号,公開日,公開番号,登録日,登録番号 "福島孝典,庄子良晃,梶谷孝,荻原響,大和田 伸,山口 達也 ,浅子 隆一","パターン形成方法、及びプラズマ処理方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 東京エレクトロン株式会社","2022/06/27","PCT/JP2022/025607","2023/01/12","WO 2023/282114",, "福島孝典,庄子良晃,高橋 寛明 ,住友 威史,東海 旭宏","非水系二次電池用電極活物質及びその製造方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 日亜化学工業株式会社","2018/07/24","特願2019-534058","2020/08/06","再表2019-026690","特許第7170644号","2022/11/04" "福島孝典,庄子良晃,高橋 寛明","sp2型炭素含有組成物、グラフェン量子ドット含有組成物およびこれらの製造方法、並びにグラファイトの剥離方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 日亜化学工業株式会社","2017/02/15","特願2018-500162","2018/12/06","再表2017/141975","特許第6887646号","2021/05/21" "福島孝典,庄子良晃,竹延 大志,今津 直樹,大井 亮","多層カーボンナノチューブ含有組成物およびその製造方法、並びに単層および/又は2層カーボンナノチューブ含有組成物の製造方法","特許","登録","国立大学法人東京工業大学, 株式会社 名城ナノカーボン","2017/02/15","特願2018-500167","2018/12/06","再表2017/141982","特許第6857364号","2021/03/24" "福島孝典,庄子良晃","π共役化合物およびその製造方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学","2016/02/29","特願2016-037295","2017/09/07","特開2017-154988",,