発明者,発明の名称,種別,状態,出願人,出願日,出願番号,公開日,公開番号,登録日,登録番号 "福島孝典,庄子良晃,梶谷孝,荻原響,大和田 伸,山口 達也 ,浅子 隆一","パターン形成方法、及びプラズマ処理方法","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, 東京エレクトロン株式会社","2022/06/27","PCT/JP2022/025607","2023/01/12","WO 2023/282114",, "福島孝典,梶谷孝,内田 聡一","液晶性化合物、液晶性化合物を含有する液晶フィルム、及び液晶フィルムを備える有機エレクトロニクスデバイス","特許","公開","国立大学法人東京工業大学, JXTGエネルギー株式会社","2017/05/25","特願2017-103962","2018/12/20","特開2018-199628",,