新プロセスによる金属(CoSi<sub>2</sub>)/絶縁体(CaF<sub>2</sub>)トンネルホットエレクトロン共鳴トランジスタの作製

Publication Information

Title

Japanese:	新プロセスによる金属(CoSi₂)/絶縁体(CaF₂)トンネルホットエレクトロン共鳴トランジスタの作製
English:	Fabrication of metal(CoSi₂)/insulator(CaF₂) tunneling hot electron resonant transistor using new process

Author

Japanese:	河野義史, 末益崇, 鈴木信弘, 渡辺正裕, 浅田雅洋.
English:	Y. Kohno, T. Suemasu, N. Suzuki, M. Watanabe, M. Asada.

Language

Japanese

Journal/Book name

Japanese:
English:

Volume, Number, Page

30p-S-15 3 1230

Published date

Mar. 30, 1994

Publisher

Japanese:
English:

Conference name

Japanese:	第41回応用物理学会関係連合講演会
English:	Nat. Conv. Rec. of The Japan Soc. of Appl. Phys.

Conference site

Japanese:	神奈川県
English:	Kanagawa