シリコン量子ドットにおける表面酸化膜中電荷のコヒーレンス効果

Publication Information

Title

Japanese:	シリコン量子ドットにおける表面酸化膜中電荷のコヒーレンス効果
English:

Author

Japanese:	前川未知瑠, テノリオぺルルハイメ, ヘルブスレブエルンスト, 山岡裕, 小寺哲夫, 小田俊理.
English:	Michiru Maekawa, テノリオぺルルハイメ, ヘルブスレブエルンスト, Yuu Yamaoka, Tetsuo Kodera, SHUNRI ODA.

Language

Japanese

Journal/Book name

Japanese:
English:

Volume, Number, Page

Published date

Sept. 2016

Publisher

Japanese:
English:

Conference name

Japanese:	第77回応用物理学会秋季学術講演会
English:

Conference site

Japanese:	新潟市
English: