"田中敦,宇津木貴太,西山昭雄,脇谷尚樹,塩田忠,櫻井修,篠崎和夫","Al(CH3)3を原料とするMOCVD法によるα−Al2O3薄膜の製膜条件の最適化","日本セラミックス協会2014年年会","日本セラミックス協会2014年年会講演予稿集",,,,"  2G28",2015,Mar.
"宇津木貴太,田中敦,西山昭雄,塩田忠,櫻井修,篠崎和夫,脇谷尚樹","PLD 法を用いたCr2O3シード層の製膜と MOCVD 法によるAl2O3薄膜の結晶化への影響","日本セラミックス協会第30回関東支部研究発表会","日本セラミックス協会第30回関東支部研究発表会講演予稿集",,,,"  B13",2014,Sept.
"田中 敦,宇津木貴太,石崎超矢,西山昭雄,塩田 忠,櫻井 修,篠崎和夫,脇谷尚樹","Al(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>を原料とするMOCVD法によるAl<sub>2</sub>O<sub>3</sub>薄膜の製膜過程","日本セラミックス協会第29回関東支部研究発表会","日本セラミックス協会第29回関東支部研究発表会予稿集",,,,"  2A04",2013,Sept.