"佐野貴洋","ECRスパッタ法によるHfN/HfSiON構造のin-situ形成プロセスと3次元ゲートデバイス応用に関する研究",,,,,,,2012,Mar.
"佐野貴洋,大見俊一郎","ECRスパッタ法により形成したHfN/HfSiON/Si(100)ゲートスタック構造の評価","春季第５７回応用物理学関係連合講演会","春季第５７回応用物理学関係連合講演会予稿集","応用物理学会",,,"p. 13-104",2010,Mar.
"Han Hui-Seong,Takahiro Sano,Young uk Song,Shun-ichiro Ohmi","Electrical Properties of Hf/HfSiON/p-Si(100) Structure MIS capacitor by Using ECR-Sputtering","春季第５７回応用物理学関係連合講演会","春季第５７回応用物理学関係連合講演会予稿集","応用物理学会",,,"p. 13-105",2010,Mar.
"佐野貴洋,大見俊一郎","ECRスパッタ法による３次元構造上へのHfN/HfONゲートスタック構造の形成","秋季第７０回応用物理学会学術講演会","秋季第７０回応用物理学会学術講演会予稿集","応用物理学会",,,"pp. 737",2009,Sept.
"佐野貴洋,大見俊一郎","3次元構造上に形成したHfON薄膜の側壁部膜質の評価","春季第56回応用物理学関係連合講演会","春季第56回応用物理学関係連合講演会予稿集","応用物理学会",,,"pp. 850",2009,Mar.
"須田雄一郎,野武幸輝,高峻,佐野貴洋,大見俊一郎","RFスパッタ法による3次元構造上へのSiO2薄膜の形成","第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集","第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集","応用物理学会",,"No. 2","p. 881",2008,Mar.
"佐野貴洋,仲野雄介,大見俊一郎","ECRスパッタ法による3次元ゲート構造上へのHfO2薄膜の形成","第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集","第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集","応用物理学会",,"No. 2","p. 882",2008,Mar.