"佐野貴洋,仲野雄介,大見俊一郎","ECRスパッタ法による3次元ゲート構造上へのHfO2薄膜の形成","第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集","第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集","応用物理学会",,"No. 2","p. 882",2008,Mar.
"高峻,仲野雄介,大見俊一郎","Hf混晶化PtSiのシリサイド化条件に関する検討","第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集","第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集","応用物理学会",,"No. 2","p. 885",2008,Mar.
"大見俊一郎,高峻,仲野雄介","Hfとの混晶化によるPtSiの仕事関数変調","電子情報通信学会SDM研究会","電子情報通信学会技術研究報告","電子情報通信学会","Vol. 107","No. 245","pp. 53-56",2007,Oct.
"仲野雄介,佐藤雅樹,大見俊一郎","ECRプラズマプロセスによるHfO2系絶縁膜の極薄膜化の検討","電子情報通信学会SDM研究会","電子情報通信学会技術研究報告","電子情報通信学会","Vol. 107","No. 245","pp. 19-22",2007,Oct.
"仲野雄介,大見俊一郎","高誘電率HfOxNy絶縁膜のPDAプロセスの検討","第68回応用物理学会学術講演会","第68回応用物理学会学術講演会 講演予稿集","応用物理学会",,"No. 2","p. 812",2007,Sept.